国際交流助成受領者/国際会議参加レポート

令和8年度 国際交流助成受領者による国際会議参加レポート

受領・参加者名
德田 浩太郎
(九州大学 大学院システム情報科学府)
会議名
18th International conference on Laser Ablation (COLA 2026)
期日
2026年9月14日~18日
開催地
Vilnius, Lithuania

1. 国際会議の概要


会場(Radisson Blu Hotel Lietuva)

COLA 2026(18th International Conference on Laser Ablation)はリトアニアの首都ヴィリニュスにて開催されました。レーザアブレーションを中心テーマとする本会議は1991年の第1回開催以来、今回で18回目を数え、パラレルセッションを設けないシングルセッション形式で口頭発表が行われる点が特徴です。口頭発表74件、ポスター発表約122件が行われ、基礎物理から応用技術まで幅広い研究が発表されました。

2. 研究テーマと討論内容

私は「Metal microdroplet ejection by optical vortex pulse irradiation」と題してポスター発表を行いました。光渦は、らせん状の波面と中心の位相特異点を有する環状ビームであり、近年、光渦を用いた微細加工が注目されています。

本研究では、光渦パルスをSn平板に照射し、マイクロドロップレット生成を試みました。高速度カメラを用いて、レーザー照射後のドロップレットの飛翔角度、飛翔速度、粒径を評価しました。レーザー出力およびビーム径を変化させて調査した結果、ドロップレット生成条件を明らかにするとともに、マイクロドロップレットの垂直飛翔の再現性を評価しました。
マイクロドロップレットの射出はパルスエネルギーとデフォーカス量に依存しており、エネルギー密度に依存するプロセスであることを明らかにしました。また、マイクロドロップレットの軌道は、非対称な溶融Snの流れや、ピンチオフ時の毛細管現象など、過渡的な流体力学の影響を受けている可能性があることを示しました。

現在、最先端の半導体製造に用いられるEUV露光装置では、Snマイクロドロップレットが原料として利用されていますが、ノズル詰まりが重要な課題となっています。本研究成果は、EUV光源におけるSnマイクロドロップレットの新たな供給手法の可能性を示すものであり、集積エレクトロニクスを支える半導体製造技術の発展に大きく貢献することが期待されます。

3. 国際会議に出席した成果
(コミュニケーション・国際交流・感想)


発表の様子

今回の発表は、私にとって初めての国際学会、ポスター発表であり、右も左もわからない状態で準備していました。結果としては自身の英語力に未熟な点があり、質問にうまく返答できなかったりしましたが、自分の伝えたいことを、時間をかけて伝えることができました。また、いくつかのレーザー表面加工に関するセッションに参加し、最新の研究動向について情報を収集することができ、自身の研究と関連する技術について学習しました。さらに、関連する研究を行っている学生と議論を交わし、交流を深めることができたことも貴重な経験となりました。
ポスター発表で学生の方、研究者の方からの質問や研究を深めていただけるようなアドバイスをいただけたことは、自身の今後の研究生活において多大に成長する貴重な機会となりました。

初めての海外ということもあり、自身の英語のコミュニケーションの未熟さを痛感するとともに、同じく日本から参加している学生の方の堂々とした英語での発表を聞くことで、自分もそうなりたいと強く願うようになりました。
英語力の向上、研究推進に向けて引き続き努力していきたいと考えています。

最後に、本会議への参加にあたり、多大なるご支援を賜りました貴財団に、心より厚く御礼申し上げます。

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