国際交流助成受領者/国際会議参加レポート

令和2年度 国際交流助成受領者による国際会議参加レポート

受領・参加者名
山崎 哲也
(近畿大学 大学院総合理工学研究科 エレクトロニクス系工学専攻)
会議名
21st International Symposium on Laser Precision Microfabrication 2020 (LPM2020)
期日
2020年6月23日~26日
開催地
[オンライン開催] (Dresden, Germany)

1. 国際会議の概要

21st International Symposium on Laser Precision Microfabrication 2020 (LPM2020) は、レーザーユーザーコミュニティーにおいて世界最大の国際会議であり、さまざまな材料への微細かつ精密なレーザー加工の最先端の開発と最近の傾向について議論される。

今年はドイツ、ドレスデンにあるドイツ衛生博物館で行われる予定であったが、新型コロナウイルスの感染拡大を防止するため、オンライン開催となった。開催は4日間であり、参加者数は218人であった。

超短パルスレーザーを用いた材料加工に関する講演が多く、超短パルスレーザーの高出力化、高エネルギー化が求められていると感じた。また、私の研究分野であるファイバレーザーの応用範囲や今後の課題に関する講演もあり、大変興味深かった。

来年は日本の弘前市で開催され、再来年はドイツのドレスデンで再び開催される予定である。

2. 研究テーマと討論内容

プレゼン発表の様子

今回、“Broadband pulsed fiber laser for suppression of stimulated Brillouin scattering” という題目でポスター発表を行った。またオンライン開催となったためZoomを用いた3分間のショートプレゼンも行った。私の研究内容は、加工用パルスファイバレーザーの高出力化が目的である。近年、難加工材料の高精度なレーザー加工を実現するために、高出力なパルスファイバレーザーが求められている。しかし、高輝度かつコヒーレントな光が長尺な導波路である光ファイバ内を伝搬すると融着ブリルアン散乱が発生し、出力が制限される。そこで種光にスーパールミネッセントダイオードの出力光をバンドパスフィルタにより切り出した光を用いることにより、レーザーのスペクトルパワー密度を下げ、誘導ブリルアン散乱の発生を抑制したパルスファイバレーザーの開発を行った。増幅後の出力光は、繰り返し周波数1 kHzにおいてピークパワー570 Wが得られ、半導体レーザーを種光として用いた際に得られたピークパワー9 Wを大きく改善した。

本発表では主に2つの質問をいただいた。1つ目は光源に用いた光学素子に関する質問、2つ目はバンドパスフィルタの透過帯域幅に関する質問であり、多くの研究者に関心を持っていただいたと感じた。

3. 国際会議に出席した成果
(コミュニケーション・国際交流・感想)

レーザーの精密加工に関する世界最大の国際会議で発表を行えたことは良い経験となった。またオンライン開催であったため、企業の展示ブースやレクチャーを気軽に見ることができ、非常に有意義な時間を過ごすことができた。開催中は英語での案内や注意事項等を理解できず戸惑うことが多々あり、英語力の不足を痛感した。しかし、拙い英語でありながらも自身の研究に興味を持っていただくことができ、充足感を感じた。

この度の国際会議参加にあたり、貴財団には多大な御支援をいただきました。
心より御礼申し上げます。

令和2年度 国際交流助成受領者一覧に戻る

ページの先頭へ